镁合金微弧氧化的电压是多少?
镁合金微弧氧化的工艺流程
除油→去离子漂洗→微弧氧化→自来水漂洗
镁合金微弧氧化过程四阶段
镁合金表面生产氧化膜氧化膜被击穿并发生等离子微弧放电深层进一步被氧化氧化、熔融、凝固平衡阶段
镁合金微弧氧化的电压是多少?
微弧氧化的电压一般最高不超过650V
650V以下时生产的氧化膜随氧化时间的延长和电压值的增高而逐渐增厚
电压超过650V时微弧氧化膜会大块脱落,并在膜表面形成一些小坑,从而大大降低氧化膜的性能。
镁合金微弧氧化和普通阳极氧化区别
微弧氧化的膜层由致密层和疏松层两层构成,与普通阳极氧化膜相比,微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,膜层与基体结合紧密,质地坚硬,分布均匀,从而具有更高的耐蚀性和耐磨性能。
微弧氧化工件的形状可以较为复杂,部分内表面也可以处理。此外,微弧氧化工艺流程比阳极氧化简单得多。
镁合金微弧氧化检验标准
氧化膜质量因氧化方法不同而异,同时由于材料用途不同,对氧化膜质量要求也有所差别。因此,镁合金氧化膜质量目前尚无统一的标准,最常见的鉴定方法如下:
1、外观检查,检查氧化膜颜色是否均匀,是否存在黑斑、花纹、起泡、锈蚀、擦伤、膜裂、针孔等缺陷,膜层是否致密,与基体附着力大小如何。
2、氧化膜有关物理性能的测定,包括膜厚、孔隙度和显微硬度等。
经过化学氧化处理的镁合金零件在使用前需涂覆一层涂料作为补充保护。涂层数通常不得少于3层。
如果零件表面不涂覆涂料,而是静电喷涂后再在流态化床涂覆环氧树脂粉末,则固化后涂层的耐蚀性远远超过氧化处理后涂覆涂料的防护效果。
镁及镁合金的微弧氧化处理工艺特点
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